：2025:02/09/10：40 ++ [PR]
：：2007:12/12/09：59 ++ 大日本印刷、半導体低コスト新製法、次世代３２ナノ、装置費５分の１。
大日本印刷は新しい半導体生産技術の実用化に乗り出す。従来の露光技術ではなく石英ガラスでつくった型をハンコのように使う「型押し」方式で回路を描く。中核となる型の生産技術を二〇〇八年度中に確立して半導体メーカーへの試験出荷を始める。半導体工場の投資の多くを占める現在の露光装置に比べ装置費用を五分の一程度に抑えられる。採用されれば最先端半導体を低コストで生産できるようになり、ＩＴ（情報技術）製品の高性能化が加速する。
半導体はシリコンウエハー上に露光装置を使って写真のように回路パターンを描いたうえで、そのパターンに沿って回路を掘り、洗浄や切断などの工程を経てＩＣチップに仕上げる。そのＩＣチップに配線を施してパッケージに組み込む。大日本印刷が実用化をめざすのは「ナノインプリント」と呼ばれる新技術で、回路微細化のカギを握る露光の工程を置き換える。
同社はこのナノインプリントに使う石英ガラスの型を開発、回路線幅が三十二ナノ（ナノは十億分の一）メートルの次世代半導体の生産用として初めて商品化する。上福岡工場（埼玉県ふじみ野市）で〇八年度中に三十二ナノの型の生産技術を確立。半導体メーカーや関連材料メーカーに試験用として出荷する。実際の生産ラインでの使用が可能かどうかはユーザーとなる半導体メーカーが最終的に判断。採用が決まれば大日本印刷は〇九年度にも同工場で量産する。
現在、半導体生産に使っている露光装置は最新のもので一台四十億円以上。ナノインプリントではレンズが不要になるため、装置は一台十億円未満で済む見込みだ。
半導体工場建設に必要な投資額は世代が替わるごとに膨らんでいる。なかでも多額のコストがかかるのが露光装置。月二万枚のウエハー加工能力を持つ生産ラインを一つ新設するために、現行の回路線幅五十ナノ台の場合で一台二十億―四十億円の露光装置が二十台程度必要とされる。
▼ナノインプリント 半導体の基板材料であるシリコンウエハーに石英ガラスの型を押しつけて回路パターンを描く製法。現在の半導体製造方法である露光方式では回路の微細化を進めると回路パターンがぼやける欠点があり、技術面での課題になっている。ナノインプリントでは型に彫り込んだ回路をそのままシリコンウエハーに転写できるため、正確な回路パターンを描ける。
【図・写真】大日本印刷が開発中のナノインプリント用の型（溝の部分が回路パターンになる）
半導体はシリコンウエハー上に露光装置を使って写真のように回路パターンを描いたうえで、そのパターンに沿って回路を掘り、洗浄や切断などの工程を経てＩＣチップに仕上げる。そのＩＣチップに配線を施してパッケージに組み込む。大日本印刷が実用化をめざすのは「ナノインプリント」と呼ばれる新技術で、回路微細化のカギを握る露光の工程を置き換える。
同社はこのナノインプリントに使う石英ガラスの型を開発、回路線幅が三十二ナノ（ナノは十億分の一）メートルの次世代半導体の生産用として初めて商品化する。上福岡工場（埼玉県ふじみ野市）で〇八年度中に三十二ナノの型の生産技術を確立。半導体メーカーや関連材料メーカーに試験用として出荷する。実際の生産ラインでの使用が可能かどうかはユーザーとなる半導体メーカーが最終的に判断。採用が決まれば大日本印刷は〇九年度にも同工場で量産する。
現在、半導体生産に使っている露光装置は最新のもので一台四十億円以上。ナノインプリントではレンズが不要になるため、装置は一台十億円未満で済む見込みだ。
半導体工場建設に必要な投資額は世代が替わるごとに膨らんでいる。なかでも多額のコストがかかるのが露光装置。月二万枚のウエハー加工能力を持つ生産ラインを一つ新設するために、現行の回路線幅五十ナノ台の場合で一台二十億―四十億円の露光装置が二十台程度必要とされる。
▼ナノインプリント 半導体の基板材料であるシリコンウエハーに石英ガラスの型を押しつけて回路パターンを描く製法。現在の半導体製造方法である露光方式では回路の微細化を進めると回路パターンがぼやける欠点があり、技術面での課題になっている。ナノインプリントでは型に彫り込んだ回路をそのままシリコンウエハーに転写できるため、正確な回路パターンを描ける。
【図・写真】大日本印刷が開発中のナノインプリント用の型（溝の部分が回路パターンになる）
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